非接觸式膜厚測(cè)量?jī)x

非接觸式膜厚測(cè)量?jī)x是一款精準(zhǔn)又好用的薄膜厚度測(cè)量設(shè)備。它能測(cè)低至20納米的超薄薄膜，測(cè)量誤差小于1納米，最快每秒可測(cè)100次，重復(fù)測(cè)量精度高達(dá)0.05納米。它采用雙光源組合，覆蓋紫外到紅外全光譜，抗干擾能力強(qiáng)，在振動(dòng)或復(fù)雜環(huán)境下也能穩(wěn)定工作。

產(chǎn)品品牌：霍爾德?電子

價(jià)格：我要詢價(jià)

廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家

產(chǎn)品時(shí)間： 2026-03-13

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產(chǎn)品概述

非接觸式膜厚測(cè)量?jī)x測(cè)試原理

反射膜厚儀基于白光干涉原理工作，光源發(fā)出的寬帶光入射至待測(cè)薄膜表面后，經(jīng)薄膜上下表面反射形成的兩束反射光會(huì)因光程差產(chǎn)生干涉，干涉信號(hào)中包含薄膜厚度、光學(xué)常數(shù)等關(guān)鍵信息，設(shè)備通過探頭采集干涉后的反射光譜，對(duì)特定波段范圍內(nèi)的光譜進(jìn)行模型擬合后，即可反演解析出薄膜的厚度、光學(xué)常數(shù)及粗糙度等參數(shù)，整個(gè)系統(tǒng)由高強(qiáng)度組合光源提供寬光譜入射光，經(jīng)光學(xué)系統(tǒng)傳輸至樣品，反射光返回后由高速光譜模塊采集信號(hào)，最終通過上位機(jī)軟件完成數(shù)據(jù)處理與結(jié)果輸出。

非接觸式膜厚測(cè)量?jī)x技術(shù)參數(shù)

型號(hào)	HD-FT50UV	HD-FT50NIR
建議工作距離	非聚焦光束，安裝距離5至10mm	安裝側(cè)面出光附加鏡時(shí)：34.5mm±2mm；軸向出光時(shí)：55mm±2mm；
測(cè)量角度	±10°	±5°
光斑類型	彌散光斑；在10mm安裝距離時(shí)，光斑直徑約為4mm；	聚焦光斑；約200μm
探頭外徑*長(zhǎng)度	Φ6.35*3200mm3	Φ20*73mm
探頭重量	190g	108g（探頭）、49g（附加鏡）
光源類型	氘鹵光源	鹵素光源
波長(zhǎng)范圍	190-1100nm	400-1100nm；1000-1700nm
測(cè)厚范圍	約20nm~50μm（折射率1.5時(shí)）	約50nm~50μm（折射率1.5時(shí)）
適配探頭	UV-VIS	VIS-NIR軸向； VIS-NIR徑向；（標(biāo)配其一）
可連探頭數(shù)量	1
探頭防護(hù)等級(jí)	IP40
重復(fù)精度	0.05nm
準(zhǔn)確度	<±1nm或±0.3%（取較大值）
采樣頻率	Max.100Hz（視求解參數(shù)復(fù)雜度而定）
測(cè)控軟件	專用上位機(jī)軟件
電源電壓	220V±20V50HzAC/
最大功率	50W
工作溫度	-10至+40℃
相對(duì)濕度	20%至85%RH（無冷凝）
控制器重量	約5000g